美光获2000亿日元补贴用于生产新一代内存芯片
日本这两年已把半导体作为重点来抓，除了重金支持国内公司量产2nm工艺之外，还拉拢了台积电、三星、Intel等全球半导体7大巨头在日本投资建厂，其中美光就获得了2000亿日元补贴。
据报道，日本方面给予美光2000亿日元的补贴，约合15亿美元，主要用于采购EUV光刻机，安装在日本广岛地区的芯片工厂，用于生产新一代内存芯片。
美光在获得巨额补贴之后，也投桃报李，宣布在日本增加5000亿日元的投资，用于生产下一代DRAM内存芯片，也就是1-gamma节点工艺的。
在内存工艺进入10nm级别之后，生产制造也越来越困难，需要先进的EUV光刻机，三星、SK海力士两大内存公司都已经在14nm节点之后转向EUV光刻工艺。
按照美光的计划，从2025年起会加大生产1-gamma节点内存的生产力度。
